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半导体/芯片面试题
PVD过程中的磁控溅射通常使用哪些工作气体,分别…
半导体/芯片面试题
更新 2026-08-05
PVD过程中的磁控溅射通常使用哪些工作气体,分别起什么作用?
长鑫存储
半导体/芯片
电子/半导体
业务理解
技术原理
考察说明
考察磁控溅射工艺中工作气体的选择及功能理解
回答思路
明确常用惰性气体如氩气作为溅射气体
说明反应溅射时添加反应气体如氮气、氧气的作用
能解释气体纯度对薄膜质量的影响
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